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牌 号：纯碳化钨 型 号：L100*30*8 用 途：溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。 描 述：溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上 -
牌 号：YG15 型 号：多种型号可选 用 途：适于制作冲压模具，耐磨耗零部件，有较高的强度，适于制作级进模等冲压模具 描 述：具有较高的强度，适于制作级进模等冲压模具 -
牌 号：YG20 型 号：多种型号可选 用 途：适于制作冲压模具，耐磨耗零部件，有较高的强度，适于制作级进模等冲压模具 描 述：具有有较高的强度，适于制作级进模等冲压模具 -
牌 号：YG15 型 号：多种型号可选 用 途：适于制作冲压模具，耐磨耗零部件，有较高的强度，适于制作级进模等冲压模具 描 述：具有较高的强度，适于制作级进模等冲压模具
